EXIBD II CT6 KF200 レーザーガス分析機 煙草ガスSOxNOxモニタリング
KF200レーザーガス分析機
,Exibd II CT6レーザーガス分析機
,Exibd II CT6 Tdl ガス分析機
KF200レーザーガス分析機 (SOx,NOx,CO,CH4,CO2) HFモニタリング用の煙草ガス分析機
KF-200 システムは,燃焼と安全制御,プロセス最適化,エネルギー回収,科学研究,環境モニタリングに広く使用されています.これらのユニットは,金属産業に使用されています.石油化学,天然ガス,発電所,廃棄物焼却,セメント,ガス測定が必要な他の状況.
主要 な 特徴
1場所内 ガス採取なし
2交差干渉がない
3速度は7秒未満です
4異なる光学長さ (0.5~20m)
5高い温度と圧力,塵密度,湿度,腐食などあらゆる厳しい条件で信頼性があります.
6オンライン校正,ゼロ漂流なし
7. 様々なアプリケーションのための数千のカスタマイズされたソリューション
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測定原則: |
調節可能なレーザー吸収スペクトロスコピー (TDLAS) |
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| テクニカルデータ |
線形性 |
≤ ± 1%F.S. |
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繰り返し可能性 |
≤ ± 1%F.S. |
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スパン・ドリフト |
≤ ± 1%F.S./6ヶ月 |
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カリブレーション期間 |
≤1回/6ヶ月 |
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| オプティカル経路長 |
0.5~20m |
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| プロセスガス温度 |
最大 1500°C |
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| プロセスガス温度 |
最大0.8〜4バー腹筋 |
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| 防爆グレード |
EXDIICT6 Gb |
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| 保護クラス | IP66 | |
| 応答時間 | 暖房用 |
≤15分 |
| 応答時間 (T90) | ≤8~10s (T90) | |
| インターフェース信号 | アナログ出力 |
2出力 4 20mA,最大負荷 750Ω,電気隔離 |
| アナログ入力 | 2つの入力 4 20mA,ガス温度と圧力補償 | |
| 通信 | RS485 (またはBluetooth,RS232またはGPRS) | |
| リレー出力 |
3出力 24V DC/1A |
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| 運用条件 | 動作温度 |
-30〜+60°C |
| 浄化ガス |
0.3〜0.8MPaの窒素ガスまたは計測器用空気 |
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| 保存温度 |
-40〜+80°C |
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| 電力消費量 |
最大 20W |
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| 電源 |
24V D (((21-36V DC),または90-240V AC (電力は特定の構成に基づいて) |
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| 設置 | 設置方法 |
試料採取探査機は,煙突/パイプシステムに搭載されます. |
| 測定原則 |
調節可能なレーザー吸収スペクトロスコピー (TDLAS) |
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ガスタイプ |
検知制限 |
検知範囲 |
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O2 |
0.01% Vol |
0-1%Vol,0-100%Vol |
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CO |
10PPm |
0- ロープ1000ppm,0〜100%Vol |
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CO2 |
10ppm |
0 - 1000ppm,0〜100% Vol |
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H2O |
0.3ppm |
0- ロープ50ppm,0〜100%ボリューム |
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NH3 |
0.1ppm |
0〜10ppm,0〜100%Vol |
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HCL について |
0.1ppm |
0〜50ppm,0〜100% Vol |
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HF |
0.02ppm |
0- ロープ5ppm,0〜10000ppm |
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H2S |
20ppm |
0- ロープ2000ppm,0〜100%Vol |
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CH4 |
0.4ppm |
0- ロープ40ppm,0〜100%Vol |
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C2H2 |
0.1ppm |
0〜10ppm,0〜100%Vol |
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C2H4 |
0.6ppm |
0〜60ppm,0〜100%ボリューム |
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HCN |
0.3ppm |
0- ロープ30ppm,0-1% Vol |
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再考1:試験条件20°Cで1mの光経路で,1バー absガス温度は300K リメイク2: 光路を拡大することで,検出限界を比例して低下させる. |
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Q1: 取引会社ですか? それとも製造会社ですか? |
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A1: 私たちは製造者です. |
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Q2:支払い方法はどうですか? |
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A2:T/T,Paypal,Western Union,L/Cは利用可能 |
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Q3:あなたの会社はカスタマイズを受け入れますか? |
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A3:私たちは顧客のためにカスタマイズサービスをします. |
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Q4: 貨物はどうですか? |
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A4: 貨物の重量に基づいて適切な輸送方式を選択します.通常はDHL,FEDEX,TNT,UPSなどのエア・エキスプレスで出荷します. |
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Q5: 販売後サービスはどうですか? |
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A5 12ヶ月保証 すべての種類の製品. |
KF-200 現地用非採取レーザーガス分析機
排ガスHCl用連続排出ガス監視システム（焼却炉向けCEMSガス分析計）
高性能センサー KF200 シリーズ TDLAS レーザーガス分析計 CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF
廃棄物焼却 CEMS 流体ガスHClCO排出量連続モニタリングシステム
KF200 インシチューレーザーガス分析機 TDLAS 産業排出量のCO NH3 HCl O2のリアルタイムモニタリング
| イメージ | 部分# | 記述 | |
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KF-200 現地用非採取レーザーガス分析機 |
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排ガスHCl用連続排出ガス監視システム（焼却炉向けCEMSガス分析計） |
Continuous Emission Monitoring System for HCl and CO in Waste Incineration Flue Gas (CEMS)
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高性能センサー KF200 シリーズ TDLAS レーザーガス分析計 CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF |
TDLAS industrial on-line analyzing and online environmental monitoring
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廃棄物焼却 CEMS 流体ガスHClCO排出量連続モニタリングシステム |
Continuous Emission Monitoring System for HCl and CO in Waste Incineration Flue Gas (CEMS)
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KF200 インシチューレーザーガス分析機 TDLAS 産業排出量のCO NH3 HCl O2のリアルタイムモニタリング |
The KF200 Series Laser Gas Analyzer is specifically designed for industrial online analysis and continuous environmental
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